Ränimetall 1101 on ränimetalli kõrge puhtusaste, mis on metallurgiline produkt, mis on saadud ränidioksiidist (ränidioksiid) redutseerimisprotsessi kaudu. Nimetus "1101" viitab selle rangele keemilisele koostisele, kusjuures kaks esimest numbrit näitavad raua ja alumiiniumi maksimaalset lisandite taset ning kaks viimast numbrit, mis tähistavad maksimaalset kaltsiumi sisaldust. Täpsemalt sisaldab ränimetall 1101 tavaliselt 99,5% minimaalset räni (SI), mille lisandid on piiratud 0,1% rauaga (FE), väiksema või võrdsusega 0,1% alumiiniumi (AL) ja vähem kui 0,01% kaltsiumi (CA). See ülimadala lisandiprofiil tagab parema jõudluse rakendustes, kus puhtus on kriitiline.

silicon metal 1101

Toodete kirjeldus

Ränimetall	Aste	Keemiline koostis
		SI (%)	Ebapuhtusisu
		SI (%)	Fe (%)	AL (%)	CA (%)	P (PPM)
	97	>97.0%	Vähem või võrdne 1,5	Vähem või võrdne 0,5	Vähem või võrdne 0,3
	553	>98.5%	Vähem või võrdne 0,5	Vähem või võrdne 0,5	Vähem või võrdne 0,3	-
	441	>99.0%	Vähem või võrdne 0,4	Vähem või võrdne 0,4	Vähem või võrdne 0,1
	3303	>99.3%	Vähem või võrdne 0,3	Vähem või võrdne 0,3	Vähem või võrdne 0,03	Vähem või võrdne 50
	2502	>99.5%	Vähem või võrdne 0,25	Vähem või võrdne 0,25	Vähem või võrdne 0,02	Vähem või võrdne 40
	2202	>99.5%	Vähem või võrdne 0,2	Vähem või võrdne 0,2	Vähem või võrdne 0,02	Vähem või võrdne 40
	421	>99.2%	Vähem või võrdne 0,4	Vähem või võrdne 0,2	Vähem või võrdne 0,1	-
	411	>99.2%	Vähem või võrdne 0,4	Vähem või võrdne 0,1	Vähem või võrdne 0,1	-

Peamised kasutusalad

1, valukoda:

Lisatakse malmile legeeriva elemendi, et parandada malmi tugevust, sitkust ja kulumiskindlust.

2, pooljuhtide tööstus:

Kasutatakse räni vahvlite valmistamiseks, mis on pooljuhtide seadmete põhimaterjal.

3, terase sulatamine:

Kasutatakse desoksüdeerijana ja legeeriva elemendina terase kvaliteedi ja jõudluse parandamiseks.

4, päikeseenergia tööstus:

Fotogalvaaniliste paneelide põhimaterjalina kasutatakse seda tõhusate päikesepatareide valmistamiseks.

5, keemiatööstus:

Kasutatakse räniühendite, näiteks räni ja silikoonõlide tootmiseks.

Teaduse ja tehnoloogia pideva arenguga muutub Silicon 1101 rakendusala üha ulatuslikumaks. Eriti uue energia, suhtluse ja infotehnoloogia valdkonnas on selle rakendus asendamatu. Seetõttu on Silicon Metal 1101 tootmisel ja uurimisel ja arendamisel suur tähtsus ja roll teaduse ja tehnoloogia praeguses ja edaspidises arengus.

Silicon Metal 1101

Peamised omadused ja eelised

Silicon Metal 1101 pakub mitmesuguseid omadusi, mis muudavad selle hädavajalikuks suure jõudlusega tööstusrakendustes:

Suur puhtus:

Ränisisaldusega 99,5% või kõrgem ja äärmiselt madal raua, alumiiniumi ja kaltsiumi sisaldus ränimetall 1101 vähendab allavoolu protsesside saastumise riski. See puhtus on kriitiline selliste rakenduste jaoks nagu elektroonika, kus isegi lisandite jälgimine võib tulemusi häirida.

Suurepärane juhtivus:

Ehkki see pole nii juhtiv kui metallid nagu vask või alumiinium, on ränimetallil 1101 pooljuhtivaid omadusi, mis muudavad selle elektroonilistes rakendustes väärtuslikuks. Selle võime eritingimustes elektrit juhtida on pooljuhtides ja päikesepatareides.

Kõrge sulamistemperatuur:

Räni sulamistemperatuur on umbes 1414 kraadi, mis võimaldab ränimetallil 1101 säilitada selle struktuuri ja omadusi kõrgendatud temperatuuril. See termiline stabiilsus muudab selle sobivaks kasutamiseks kõrge temperatuuriga sulamites ja tulekindlates rakendustes.

Keemiline reaktsioonivõime:

Räni moodustab hõlpsalt sulamid teiste metallidega, näiteks alumiiniumist ja magneesiumiga, parandades nende tugevust, korrosioonikindlust ja pasupidavust. See reaktsioonivõime teeb sellest ka tõhusa desoksüdeerija terase valmistamise ja metallurgiliste protsesside korral.

Järjepidev kvaliteet:

Ranged tootmiskontrollid tagavad ränimetalli 1101 osakeste suurus, keemiline koostis ja füüsikalised omadused. See järjepidevus vähendab tootmise protsessi varieeruvust, parandades toote kvaliteeti ja saagikust.

Silicon Metal 1101